CVD法制备多壁碳纳米管中升温速率的影响  

作　　者：林天津[1] 朱燕娟[1] 谢红波[1] 黄亮国[1] 

机构地区：[1]广东工业大学物理与光电工程学院

出　　处：《科技信息》2009年第22期69-69,共1页Science & Technology Information

摘　　要：CVD法作为制备多壁碳纳米管的技术日臻成熟,其工艺过程中众多的影响因素也得到研究者广泛深入的研究,但就还原温度升温至裂解温度的升温速率对该法制备碳纳米管的影响报道较少,本文以稀土合金LaNi5为催化剂,C2H2为碳源气,H2和N2为还原气和保护气,选用不同的升温速率制备碳纳米管,通过XRD图谱和SEM图像分析升温速率对产物的影响。

关 键 词：碳纳米管 CVD 催化剂 升温速率 

分 类 号：TQ530.2[化学工程—煤化学工程] TB383[一般工业技术—材料科学与工程]