CD-SEM如何与散射成像相互补充  

作　　者：Alexander E. Braun 

出　　处：《集成电路应用》2009年第9期20-23,共4页Application of IC

摘　　要：自从散射成像技术开始应用于IC制造业后，就没有停止过与特征尺寸扫描电子显微镜（CD—SEM）之间的竞争，伴随着激烈的竞争，两项技术都不断地进行着改进（图1）。从半导体技术发展蓝图的角度来讲，这种竞争所产生的结果是正面的。现在，CD-SEM通过分析多条线，获取特征尺寸（CD）的信息；CD—SEM也正在朝着同时分析多条线的方向努力，而散射成像技术早已实现了这项功能。现在。

关 键 词：成像技术 SEM 散射 CD 扫描电子显微镜 互补 特征尺寸 半导体技术 

分 类 号：TN16[电子电信—物理电子学] P631.4[天文地球—地质矿产勘探]