晶体倒空间中的迹线分析  

作　　者：李玉清[1] 李蓬[2] 刘雅晶[3] 

机构地区：[1]大冶特殊钢股份有限公司技术中心,黄石435001 [2]北京航空航天大学,北京100083 [3]北京科技大学,北京100083

出　　处：《自然科学进展（国家重点实验室通讯）》1998年第5期611-618,共8页

摘　　要：提出适用于各种晶系晶体倒空间中迹线的分析原理,并由此导出的计算公式,从电子衍射花样上的漫散衍射条纹或(和)伴点,可简便确定晶体中所存在的面缺陷。应用此迹线分析原理,分析讨论了奥氏体{111}面上可能形成VC膜,标注和确定了Laves相中的层错面和(Fe,Cr)_7C_3中的缺陷面。

关 键 词：晶体倒空间 迹线分析 面缺陷 电子显微术 

分 类 号：O771[理学—晶体学]