用Ti(OC_3H_7)_4制备Ti(CN)涂层研究  

Preparation of Ti(CN)Coatings with Ti(OC3H7)4

作　　者：石玉龙[1] 彭红瑞[1] 李世直[1] 

机构地区：[1]青岛化工学院等离子体表面技术研究所

出　　处：《真空电子技术》1998年第5期36-39,共4页Vacuum Electronics

基　　金：山东省自然科学基金

摘　　要：文章叙述了采用金属有机物四异丙基钛（Ｔｉ［ＯＣ３Ｈ７］４］为钛温，在外加热ＰＣＶＤ设备上沉积Ｔｉ（ＣＮ）涂层。并对涂层进行了其显微硬度测量，扫描电镜（ＳＥＭ）观察和Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）分析。结果表明，此法制备的Ｔｉ（ＣＮ）涂层其显微硬度可达标１５６００Ｎ／ｍｍ２，膜层结构仍为在状晶，Ｔｉ（ＣＮ）晶体的ｄ（２００）随着炉温的升高和Ｈ２．Ｎ２比的增大在逐渐变化。The use of metallo-organic compound Ti(OC3H7)4 with auxiliary heating plasma assisted CVD of Ti (CN) coating is reported. The Ti(CN ) coatings were analyzed with SEM and XRD. The maximal microhardness value is 15 600 N/mm2, the morphology of coatings is columnar structure,and the d(200)-valuls of Ti(CN) films changed with the oven temperature and the ratio of H2 to N2.

关 键 词：金属有机物 等离子体 四异丙基钛 碳氮化钛 

分 类 号：O627.43[理学—有机化学] TN136.05[理学—化学]