澳大利亚研制纳米电子束曝光系统  

出　　处：《激光与光电子学进展》2009年第11期10-10,共1页Laser & Optoelectronics Progress

摘　　要：澳大利亚莫纳什大学的研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统（EBL）。该系统可在纳米级的物体上进行书写或者蚀刻。

关 键 词：电子束曝光系统 澳大利亚 纳米设备 研究人员 纳米级 蚀刻 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TN401