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机构地区:[1]哈尔滨师范大学物理系
出 处:《人工晶体学报》1998年第2期152-155,共4页Journal of Synthetic Crystals
基 金:哈尔滨师范大学青年科研基金
摘 要:利用离子注入法,以300keV的能量,7×1014cm-2的剂量,在室温下,对(100)InP晶体进行稀土(RE)元素Er的注入;分别在600℃、650℃、700℃、750℃、800℃温度下,采用安瓿闭管恒温退火20h。二次离子质谱仪(SIMS)观测到稀土元素Er原子在InP中的分布,直到800℃时几乎没有变化;在77K温度下,观测到InP中Er3+离子的1.54μm特征光致发光(PL)峰。The (100) InP samples were implanted with 300keV Er ions to a dose of 7×10 14 cm -2 at room temperature.The samples were put in an evacuated quartz ampoule together with phosphorus powder and annealed at 600℃、650℃、700℃、750℃、800℃ for 20h,respectively.The Er distribution in InP crystal are observed by secondary ion mass spectroscope (SIMS). The result show that the Er profile for both as implanted and annealed samples is nearly the same. The Er radiated 1.54μm luminescence peak has been observed in Er doped InP at 77K. The mechanism of the influence of annealing temperature on intensity of PL from Er implanted InP is propiosed in this paper.
分 类 号:TN304.207[电子电信—物理电子学] O614.372[理学—无机化学]
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