磁性附着体全口义齿模型的磁通密度测定  

作　　者：容柏成[1] 张铭[1] 廖军辉[1] 

机构地区：[1]广东省医学科学院广东省人民医院口腔科,广州市510080

出　　处：《实用医学杂志》2009年第24期4109-4110,共2页The Journal of Practical Medicine

基　　金：广东省社会发展领域科技计划项目立项(编号:200773068)

摘　　要：目的:分析评价体外实验中微型种植体-磁性附着体全口义齿的磁通密度变化,为其临床应用提供理论数据。方法:在微型种植体-磁性附着体全口义齿完全就位时及其与模型垂直,水平错开一定距离时,用高斯计检测各方位磁通密度的变化。结果:义齿完全就位时,磁性附着体垂直表面和唇舌侧表面磁通密度分别为24.1、23.7、23.6 mT,随着测量距离的增加和磁体衔铁的错开,测得的磁通密度值随之迅速递减。结论:微型种植体-磁性附着体的磁通密度值对人体属安全范围。

关 键 词：义齿 全口 磁性附着体 磁通密度 

分 类 号：R783.6[医药卫生—口腔医学] R816.8[医药卫生—临床医学]