CVD法制备高纯钛形核过程动力学分析  

The analysis of CVD process for high purity titanium

作　　者：方敏[1] 陈肖虎[1] 宋建敏[2] 韩涛[1] 

机构地区：[1]贵州大学材料科学与冶金工程学院,贵州贵阳550003 [2]大连交通大学材料科学与材料加工工程学院,辽宁大连116028

出　　处：《轻金属》2010年第2期55-58,共4页Light Metals

摘　　要：实验用了化学气相沉积(CVD)法制备高纯钛,对高纯钛制备中的形核过程进行了热力学和动力学分析,实验得出:沉积区温度应控制在1350K^1450K。Experiments using chemical vapor deposition（CVD） preparation of high pure titanium,preparation of high pure titanium nucleation process of thermodynamic and kinetic analysis were made.Experiment results： deposition zone temperature should be controlled at 1350K～1450K.

关 键 词：CVD 高纯钛 动力学 

分 类 号：TF823[冶金工程—有色金属冶金]