KLA—Tencor推出PROLITH（TM）X3．1光刻模拟软件  

出　　处：《中国集成电路》2010年第3期7-7,共1页China lntegrated Circuit

摘　　要：KLA—Tencor公司推出了他们最新一代的PROLITH光刻模拟软件。PROLITHX3．1让处于前沿领先地位的芯片厂商、研发机构及设备制造商能够迅速日一极具成本效益地解决EUV和两次图像合成光刻（DPL）制程中的挑战性问题，包括线边粗糙度（LER）和图形成像问题。使用PROLITHX3．1光刻软件能够简化他们的研发，节约宝贵的光刻单元资源，并加快产品开发。

关 键 词：模拟软件 KLA 光刻 研发机构 设备制造商 芯片厂商 图像合成 成本效益 

分 类 号：TN873.93[电子电信—信息与通信工程]