直流磁控溅射法在Mg-Li合金表面沉积TiN薄膜提高合金抗腐性的研究  

作　　者：高福毅[1] 陈玉强[1,2] 彭鸿雁 薛晓宇[3] 姜宏伟[1] 

机构地区：[1]牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料省级重点实验室,黑龙江牡丹江157012 [2]哈尔滨工程大学超轻材料与表面技术教育部重点实验室,黑龙江哈尔滨150100 [3]东北师范大学物理实验室,吉林长春130000

出　　处：《牡丹江师范学院学报（自然科学版）》2010年第1期13-16,共4页Journal of Mudanjiang Normal University：Natural Sciences Edition

摘　　要：TiN薄膜具有良好的抗腐蚀性,采用直流磁控溅射法低温下合成TiN薄膜可以节约能源,简化工艺.采用直流磁控溅射法在Mg-Li合金表面沉积TiN膜,TiN膜厚度约为1.6μm,靶材为纯度99.99%的钛靶.用X射线衍射仪(XRD)来表征薄膜的成分,薄膜的表面形貌用扫描隧道显微镜(SEM)以及原子力电子显微镜(AFM)来表征.将样品放入浓度为3.5%的NaCl溶液中进行腐蚀实验,结果镀TiN膜的镁锂合金样品析氢速率很慢;用SEM进行腐蚀表面观察,未镀TiN薄膜的合金表面比镀TiN薄膜的合金表面腐蚀严重,说明在Mg-Li合金表面沉积TiN薄膜提高了镁锂合金的抗腐蚀性.

关 键 词：镁锂合金 TIN薄膜 抗腐蚀性 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]