深紫外相干光源的最新进展  

作　　者：张鑫[1] 王桂玲[1] 陈创天[1] 

机构地区：[1]中国科学院理化技术研究所,北京100190

出　　处：《激光与光电子学进展》2010年第3期5-5,共1页Laser & Optoelectronics Progress

基　　金：国家重点基础研究项目(2004CB619001;2004CB619006);国家自然科学基金(50590402;50590404)资助课题

摘　　要：深紫外（DUV）相干光源是指能输出波长短于200nm相干辐射的光源，在超高分辨率光电子能谱仪的研制、半导体光刻技术、机械微加工以及生物基因工程等领域，有着重要的应用价值。虽然准分子激光器（如ArF和F2激光器）也能产生DUV相干光，但局限于某些孤立的波长（如193．5和157nm），而且操作不方便，从而限制了其应用范围。另外一种产生DUV相干光的方法是利用非线性光学晶体对全固态激光器的基频光进行多级变频，这样产生的DUV相干光不但光束质量好，操作方便，而且波长可调谐，从而有利于DUV相干光源应用的实用化与精密化。

关 键 词：相干光源 深紫外 准分子激光器 波长可调谐 非线性光学晶体 光电子能谱仪 生物基因工程 全固态激光器 

分 类 号：TN248.22[电子电信—物理电子学]