LLL型X射线干涉仪中的晶片厚度的最佳选择  

Optimization of the lamella thickness of the LLL interferometer

作　　者：王林[1] 曹芒[1] 李达成[1] 

机构地区：[1]清华大学精密测试技术与仪器国家重点实验室

出　　处：《光学技术》1999年第1期76-79,共4页Optical Technique

基　　金：自然科学基金

摘　　要：要实现Ｘ射线干涉测量，关键是Ｍｏｉｒｅ条纹要有良好的对比度，接收信号要有足够的强度。影响Ｍｏｉｒｅ条纹对比度及信号强度的因素很多，仅对通过优化干涉仪中晶片的尺寸实现Ｍｏｉｒｅ条纹高对比度及信号高强度的方法进行了理论分析。The key technology in realizing X ray interferometry is the fine contrast of Moire fringe and high intensity of the receiving signal. They can be influenced by many factors. This paper mainly discusses the improvement of the contrast and the signal intensity through the optimization of thickness of the three silicon lamella.

关 键 词：最佳选择 干涉仪 晶片厚度 X射线干涉测量 

分 类 号：TH744.3[机械工程—光学工程] O434.12[机械工程—仪器科学与技术]