MOCVD工艺模拟系统  

Processing Simulation System for MOCVD

作　　者：陈维友[1] 张冶金[1] 曹晓光 汪爱军[1] 刘彩霞[1] 刘式墉[1] 

机构地区：[1]吉林大学电子工程系,长春130023

出　　处：《吉林大学自然科学学报》1999年第2期72-74,共3页Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Jilinensis

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：报道一个 Ｍ Ｏ Ｃ Ｖ Ｄ 全方位综合工艺模拟系统． 该系统包含反应室气流流体力学模拟、化学反应热力学模拟和沉积过程动力学模拟等 ３ 个子系统， 它们可以独立运行， 也可以联合运行．A general processing simulation system for MOCVD is presented. This software package includes three subsystems: reactor fluid mechanics simulation subsystem, reaction thermodynamic simulation subsystem, deposition kinetics simulation subsystem. These subsystems can run independently for different aims, also can run jointly for complete simulation of MOCVD.

关 键 词：MOCVD 工艺模拟系统 半导体 薄膜 沉积过程 

分 类 号：TN304.055[电子电信—物理电子学] O484.1[理学—固体物理]