直流电弧等离子体喷射法制备金刚石薄膜  

作　　者：阎震[1] 李荣志[1] 朱鹤孙[1] 

机构地区：[1]北京理工大学材料科学研究中心

出　　处：《北京理工大学学报》1989年第3期18-18,共1页Transactions of Beijing Institute of Technology

摘　　要：金刚石是一种性能非常优异的功能材料。近年来在低压下由气相沉积合成金刚石薄膜的研究引起了很多国家和科学技术工作者的兴趣。 我们设计的低压直流电弧等离子体喷射装置制备出的金刚石薄膜有较高的沉积速度,结构良好。

关 键 词：金刚石薄膜 电弧等离子体 喷射法 

分 类 号：O635.1[理学—高分子化学]