电子束刻蚀数字像元全息图  

Digital pixel hologram by means of e beam lithography

作　　者：王天及[1] 李耀棠[1] 杨世宁[1] 张世超[1] 范少武[1] 温焕荣[1] 

机构地区：[1]中国科学院广州电子技术研究所

出　　处：《激光杂志》1999年第3期34-35,57,共3页Laser Journal

摘　　要：作者在研制激光数字点阵全息图的基础上，尝试使用电子束刻蚀系统制作数字像元全息图以期用于防伪和保密模压全息图的制作。并对电子束刻蚀系统制作数字像元全息图的优缺点加以讨论。Trial fabrication of digital pixel hologram which are recorded by an electronic beam lithography system to apply to fabrication of embossing hologram for anti counterfeiting and security is described.The advantage and disadvantage of EBL digital pixel hologram is discussed.

关 键 词：电子束刻蚀 数字像元编码 全息图 激光技术 

分 类 号：TB877[一般工业技术—摄影技术] TN24[电子电信—物理电子学]