集成电路铜连线技术  

COPPER INTERCONNECT TECHNOLOGY FOR ICS

作　　者：徐毓龙[1] 周晓华[1] 徐玉成[1] 

机构地区：[1]西安电子科技大学

出　　处：《物理》1999年第6期364-367,共4页Physics

摘　　要：简要介绍了集成电路铜连线技术及其应用The copper interconnect technology for ICs and their applications are introduced briefly.

关 键 词：铜连线技术 低介电常数介质 RC常数 集成电路 

分 类 号：TN405.96[电子电信—微电子学与固体电子学]