光学光刻的极限  

作　　者：谢中生 Brun.,JH 

出　　处：《电子工业专用设备》1999年第1期54-59,共6页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：光学光刻是３０年来ＩＣ生产中作图技术的主要工艺方法。抗蚀剂和光学系统方面的迅猛发展和惊人进步，已超前于更复杂的替代方法的应用。这种替代还将继续多久？采用变换镜头和系统的各种途径表明，光学光刻技术仍有发展的余地。光学光刻的极限将延伸到１００ｎｍ以下，接近７０～８０ｎｍ。

关 键 词：光学光刻 IC 集成电路 制造工艺 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]