大功率AlGaAs—GaAs激光器干涉镜和减反射膜的制备  

作　　者：罗江财[1] 王静波[1] 

机构地区：[1]重庆光电技术研究所

出　　处：《四川真空》1999年第1期34-37,共4页

摘　　要：分别用磁控溅射和电子束蒸发技术，在大功率ＡｌＧａＡ３－ＧａＡ３激光器条端面上，制作了ＳｉＯ２／Ｓｉ干涉镜和Ａｌ２Ｏ３减反射膜。讨论了Ｓｉ靶反应磁控溅射下，氧化硅层的沉积速率和影响镀层质量的因素。

关 键 词：大功率 激光器 干涉镜 减反射镜膜 铝镓砷 

分 类 号：TN248[电子电信—物理电子学] O484.1[理学—固体物理]