丝裂霉素C在超高度近视准分子激光角膜上皮瓣下磨镶术中的应用  

作　　者：王宏英[1] 王大军[1] 荆凤英[1] 高宁[1] 徐玉鹏[1] 

机构地区：[1]山东省聊城市第二人民医院,252600

出　　处：《河北医药》2011年第4期563-565,共3页Hebei Medical Journal

摘　　要：目的探讨在超高度近视准分子激光角膜上皮瓣下磨镶术(LASEK)中应用丝裂霉素C(MMC)对角膜上皮下混浊(Haze)的影响。方法将术中应用MMC的41例80眼超高度近视患者列为试验组,随机抽取术中未应用MMC的42例80眼超高度近视患者为对照组,术后定期随访观察2组角膜上皮愈合时间、视力恢复及Haze形成情况。结果试验组患者术后不同时期Haze发生程度较对照组低,视力较对照组高,2组差异有统计学意义(P<0.05)。2组眼部刺激症状和角膜愈合时间差异无统计学意义(P>0.05)。结论对超高度近视患者,LASEK术中应用0.02%MMC可减轻术后Haze的形成,未见明显不良反应。

关 键 词：丝裂霉素C 超高度近视 准分子激光角膜上皮瓣下磨镶术 

分 类 号：R778.11[医药卫生—眼科]