微电子光刻实验净化工作台设计  

A new clean bench design for microelectronics lithography

作　　者：王强[1] 施敏[1] 罗辰[1] 张丹[1] 

机构地区：[1]南通大学,江苏南通226019

出　　处：《中国现代教育装备》2011年第5期21-22,32,共3页China Modern Educational Equipment

基　　金：南通市应用研究计划(编号:k2010014);南通大学杏林学院自然科学基金(编号:2010k120)

摘　　要：提出了一种导流分压式双正压净化工作台。分析了该工作台的结构特征及工作原理。通过与常规垂直层流净化工作台的比较及实验结果分析,指出了该产品的经济性、优越性及应用前景。A new parallel flow diversion cleaning bench with two positive pressure zones is designed.The advantages of the structure are analyzed by experiments and a reasonable explanation about how the bench work is discussed.Compared with the regular horizontal f low cleaning bench,the new structure bench is competed in its application field.

关 键 词：导流分压 双正压 净化工作台 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]