X光激发氮氧化铝膜层电子特征能量探测与分析  

THE PROBE AND ANALYSIS OF THE CHARACTERISTIC ENERGY OF ELECTRON IN AlN x O y FILMS EXCITED BY X RAY

作　　者：刘漪[1] 陈萦[2] 刘芬[2] 

机构地区：[1]北京轻工业学院基础部 [2]北京理化分析测试中心

出　　处：《工科物理》1999年第4期31-33,共3页

摘　　要：本文报告了用Ｘ光电子能谱法（ＸＰＳ）对氮氧化铝／铁膜内层电子特征能量的探测与分析，获得了膜层中不同深度的元素成分及化学结构．结果表明：ＸＰＳ方法是研究氮氧化铝选择性吸收膜的有效方法．It is a report in which the atomic concentrations and chemical compositions along the depth of a AlN x O y /Fe selectively absorptive film are analyzed by determining the characteristic energy of electron using X ray photoelectron spectroscopy(XPS). The result shows that the XPS is an effective means for studying the AlN x O y /Fe selectrively absorptive film.

关 键 词：X光电子能谱 氮氧化铝 特征能量 薄膜 

分 类 号：O484.4[理学—固体物理]