第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议征稿通知  

作　　者：吴忠振 

出　　处：《真空》2011年第2期96-96,共1页Vacuum

摘　　要：第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议（The 11th International Workshopon Plasma—Based ion implantation ＆ deposition，PBII＆D2011）将于2011年9月8—12日在我国哈尔滨举行，同时举行产品展览。欢迎大家积极投稿，同时欢迎各参展单位联系展览。会议组织单位为哈尔滨工业大学和先进焊接与连接国家重点实验室等。

关 键 词：国际会议 离子注入 离子基 征稿通知 沉积 哈尔滨工业大学 国家重点实验室 PLASMA 

分 类 号：TN305.3[电子电信—物理电子学]