检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:冯亚萍[1] 周骏[1] 阳明仰[1] Lucia Petti 林豪[1] 丁海芳[1]
机构地区:[1]宁波大学理学院物理系,浙江宁波315211 [2]Istituto di Cibernetica,Consiglio Nazionale delle Ricerche
出 处:《光学学报》2011年第4期258-263,共6页Acta Optica Sinica
基 金:国家自然科学基金(60977408);宁波市自然科学基金(2008A610001);宁波市国际科技合作项目(2010D10018)资助课题
摘 要:采用电子束刻蚀技术在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基底上制作高精度、大面积纳米量级的二维Thue-Morse型准周期光子晶体,并且对其远场衍射的光学特性进行了实验研究。同时,根据光的衍射和干涉理论,对二维Thue-Morse型准周期光子晶体的夫琅禾费衍射图像的空间强度分布进行了理论分析,理论模拟和实验结果一致。A large-area two-dimensional Thue-Morse quasicrystal with nanometer structures is fabricated on poly-methyl methacrylate(PMMA) substrate using the technology of electron beam lithography(EBL).And the optical properties of sample are studied by the far-field diffraction experiment.In addition,according to the diffraction principle and interference theory,the Fraunhofer diffraction patterns of the Thue-Morse quasicrystal are simulated and analyzed.It is shown that the theoretical simulations are consistent with the experimental results very well.
关 键 词:光学器件 准周期光子晶体 Thue-Morse序列 电子束刻蚀 远场衍射
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