气相法制备金刚石的新进展  

作　　者：阎震[1] 李荣志[1] 朱鹤孙[1] 

机构地区：[1]北京理工大学材料科学研究中心化学工程系

出　　处：《微细加工技术》1990年第2期25-30,共6页Microfabrication Technology

基　　金：本课题系国家新材料专家小组

摘　　要：本文对气相法制备金刚石技术的新发展作了综述,同时介绍了自行设计的低压直流电弧等离子体喷射法装置,并对所制备的金刚石薄膜进行了拉曼光谱及扫描电镜的分析与评价。

关 键 词：金刚石 气相法 制备 薄膜 

分 类 号：TN304.18[电子电信—物理电子学]