有磁场的等离子体CVD法合成金刚石  

作　　者：铃木準一 魏津 川原田洋 平木昭夫 王景义 

机构地区：[1]大阪大学工学部 [2]同学部大学院 [3]同学部

出　　处：《微细加工技术》1990年第2期70-75,共6页Microfabrication Technology

摘　　要：最近几年,金刚石由于具有出色的物理性能和化学性能,除了期待它在工具、研磨材料上的应用之外,还期待它在半导体材料、光学材料、热沉、音响材料等方面得到应用,特别是现在能用气相合成法很容易制成多晶金刚石薄膜,这些方面的应用研究也就更进一步了。把金刚石薄膜用作这样的材料时,除了高速成膜之外,需要大面积、均匀成膜。

关 键 词：金刚石 CVD法 合成 等离子体 磁场 

分 类 号：TN304.18[电子电信—物理电子学]