影响根管内氢氧化钙制剂清除率的相关因素  

Related factors in calcium hydroxide medication removal

作　　者：阳昕怡[1] 汪俊[1] 

机构地区：[1]上海交通大学附属第九人民医院口腔预防儿童科上海市口腔医学重点实验室,上海200011

出　　处：《口腔材料器械杂志》2011年第2期106-109,共4页Chinese Journal of Dental Materials and Devices

基　　金：上海市科学技术委员会科研计划项目(074119644);上海市重点学科建设项目(S30206)

摘　　要：年轻恒牙由于各种因素导致根尖发育停止后,临床上常行根尖诱导成形术以促使牙根继续发育。但在根管充填之前,彻底清除根管壁上的牙本质玷污层,牙本质碎屑和根管内药物是很有必要的。本文就影响根管内氢氧化钙制剂清除率的相关因素进行阐述,并就某些问题进行相关讨论。

关 键 词：氢氧化钙 清除率 

分 类 号：R781.05[医药卫生—口腔医学]