变角XPS定量分析的研究  

STUDY OF COMPOSITION/DEPTH ANALYSIS TECHNIQUE BY ANGULAR DEPENDENT XPS

作　　者：汪贵华[1] 杨伟毅[1] 常本康[1] 

机构地区：[1]南京理工大学电子工程与光电技术学院,南京210094

出　　处：《真空与低温》1999年第4期242-245,共4页Vacuum and Cryogenics

摘　　要：综述了变角Ｘ 射线光电子能谱（ＸＰＳ） 分析表面的原理和计算方法，获得了变角ＸＰＳ分析表面／深度的定量计算程序，可快速可靠地计算多层多种组分的含量和层厚度。The theory and methods of the composition dependence on depth of surface by angular-dependent X-ray photoelectron spectroscopy(XPS)have been summarized.The quantitative calculating programs were achieved,which could calculate quickly and reliably chemical compositions and layer thickness of multi-layer structure surface.

关 键 词：变角XPS 层结构 组分 定量分析 

分 类 号：O657.99[理学—分析化学]