脉冲激光溅射沉积PZT膜  

Pulsed Laser Deposition of PZT film

作　　者：冯钟潮[1] 赵岩[1] 锺志源[2] 

机构地区：[1]中国科学院金属研究所,沈阳110015 [2]香港城市大学

出　　处：《应用激光》1999年第5期262-264,268,共4页Applied Laser

基　　金：香港UGC;CERG资助!项目号:No.city U1012/97E

摘　　要：利用脉冲激光溅射沉积ＰＺＴ压电陶瓷薄膜。着重研究了制备过程对膜层成分和结构的控制。This paper reports an investigation on PZT films by pulsed laser deposition. The control of stoichiometry and structure of PZT films in the preparation has been researched emphatically.

关 键 词：脉冲 激光溅射沉积 压电陶瓷 PZT薄膜 

分 类 号：TN304.905[电子电信—物理电子学]