检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:陈永雄[1] 梁秀兵[2] 魏世丞[1] 张志彬[1,3] 徐滨士[1]
机构地区:[1]装甲兵工程学院装备再制造技术国防科技重点实验室,北京100072 [2]装甲兵工程学院科研部,北京100072 [3]北京工业大学材料学院,北京100022
出 处:《装甲兵工程学院学报》2011年第3期82-85,共4页Journal of Academy of Armored Force Engineering
基 金:国家“863”计划项目(2009AA03Z342);国家自然科学基金资助项目(50735006,50905185)
摘 要:基于电弧喷涂沉积丘的轮廓呈高斯分布的假设,并结合实验结果,建立了电弧喷涂沉积丘轮廓的数学模型,由此推导出了自动化喷涂过程中平行路径偏移间距这一重要参量的优化模型。该模型为合理规划自动化喷涂的路径提供了依据。In the present study,the deposit formed during spraying with fixed gun and substrate is approximated by a Gaussian function,and the constants are determined based on experiments.Consequently,an analytical model to optimize the key variable,the spraying path interval during automatic electric arc spraying,is put forward.The mentioned model can be considered as a fundamental method for reasonable path planning of the automatic arc spraying process.
分 类 号:TG174.4[金属学及工艺—金属表面处理]
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