影响抛光粉抛蚀率的因素  

Effects Factors on Removal Rate of Polishing Powder

作　　者：李颖毅[1] 陈伟凡[1] 

机构地区：[1]南昌大学材料科学与工程学院,南昌330031

出　　处：《有色金属（冶炼部分）》2011年第9期44-46,共3页Nonferrous Metals（Extractive Metallurgy)

基　　金：国家自然科学基金资助项目(20161002);江西省自然科学基金资助项目(2008GZC0021)

摘　　要：以抛蚀率作为评价抛光粉性能的指标。详细考察了铈基抛光粉的浆料浓度、抛光时间、抛光粉的灼烧温度、抛光体系的温度对ZF6型光学玻璃抛蚀率的影响。Removal rate is used as property index of evaluating polishing powder.The effects of slurry concentration,polishing time,calcinations temperature of cerium-based polishing powder and system temperature on ZF6-type optical glass is researched in detail.

关 键 词：抛光粉 抛蚀率 CEO2 化学机械抛光 

分 类 号：O482.31[理学—固体物理] O614.33[理学—物理]