薄膜太阳电池用TCO薄膜制造技术及其特性研究  

Research on the Fabrication Technology and Characteristics for TCO Thin Films Applied in Thin Film Solar Cells

作　　者：陈新亮[1] 王斐[2] 闫聪博[3] 李林娜[1] 林泉[1] 倪牮[1] 张晓丹[1] 耿新华[1] 赵颖[1] 

机构地区：[1]南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津300071 [2]南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津300071 [3]南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津300071

出　　处：《材料导报》2011年第18期73-77,共5页Materials Reports

基　　金：国家重点基础研究发展计划(2011CBA00705;2011CBA00706;2011CBA00707);国家高技术研究发展计划(2009AA050602);天津市应用基础及前沿技术研究计划(09JCYBJC06900);中央高校基本科研业务费专项资金项目(65010341)

摘　　要：阐述了玻璃衬底、柔性衬底透明导电氧化物薄膜(Transparent conductive oxides-TCO)以及硅基薄膜太阳电池应用方面的最新研究成果。绒面结构可以提高薄膜太阳电池效率和稳定性并降低生产成本。磁控溅射技术和LP-MOCVD技术是制造绒面结构ZnO-TCO薄膜(例如"弹坑"状和"类金字塔"状表面)的主流生长技术;高迁移率TCO薄膜(IMO、IWO、ZnO∶Ga等)以及柔性衬底TCO薄膜是研究开发的重点。The up-to-date experiment progresses in TCO thin films on glass and flexible substrates and their applications for Si-hased thin film solar cells were presented. Textured surface with good light scattering can improve the solar cells efficiency, stability and reduce the production costs. Magnetron sputtering and LP-MOCVD are the main fabrication technology for textured ZnO-TCO thin films. TCO thin films （IMO, IWO, ZnO ： Ga） with high mobility and these thin films on the flexible substrates have become the key issues.

关 键 词：镀膜技术 TCO薄膜 绒面结构 高迁移率 缓冲层 梯度掺杂 薄膜太阳电池 

分 类 号：TN304.054[电子电信—物理电子学] TN304.25