检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]西北工业大学,西安710072 [2]航天科工集团第三研究院31所,北京100074
出 处:《航空精密制造技术》2002年第3期6-10,共5页Aviation Precision Manufacturing Technology
摘 要:从理论上分析了微粒重叠对测量结果的影响,通过简化模型,给出了对粒子数测量结果的补偿曲线。并建立了分析图象分辨率、微粒识别率和识别阈值三者关系的模型,给出了在识别阈值不变情况下,图象分辨率与微粒识别率的关系图,从而可以选择优化的图象分辨率和微粒识别阈值。By theoretical analysis,the influence particles overlap on measuring r esult is analyzed.The com-pensation curve to the result of particle count measured is given by using a simplified model.The model of the relations among image resolvability,particles detecting efficiency a nd detecting threshold is set up.The relative figure between image resolvability and particles detecting efficiency in constant detecting threshold is p resented,so optimized image resolvability and d etecting threshold could be selecte d.
分 类 号:V261[航空宇航科学与技术—航空宇航制造工程]
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