发光材料  

出　　处：《中国光学》2000年第2期97-99,共3页Chinese Optics

摘　　要：O482.31 20000021397溅射制备ZnS:Er³⁺薄膜的光电子发射结构=Photo-electronemissive structures in ZnS:Er³⁺ thinfilm prepared by RF magnetron sputtering[刊,中]/柳兆洪,王余姜,陈谋智,纪安妮,邓彩玲（厦门大学物理系.福建,厦门（361005））//半导体情报.-1998,35（4）.-49-51利用射频磁控溅射法制备掺铒硫化锌直流电致发光薄膜,用XPS（X射线光电子能谱）技术进行剖析,获得薄膜内部构态与发光性能关系的信息,讨论了微晶薄膜中稀土掺杂状态对激光机制的影响。图2表1参7（赵桂云）

关 键 词：发光材料 多孔硅 光致发光光谱 射频磁控溅射法 电致发光薄膜 光电子能谱 半导体 发光性能 荧光光谱 光电子发射 

分 类 号：O482.31[理学—固体物理]