射频磁控溅射法

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射频磁控溅射制备SnS薄膜及其特性研究
《延边大学学报(自然科学版)》2024年第4期20-25,共6页杨壮 戚庆碧 顾广瑞 
国家自然科学基金(51272224);吉林省自然科学基金(20210101163JC)。
以玻璃和硅(Si)为衬底,采用射频磁控溅射法在不同溅射压强下制备了SnS薄膜.利用X射线衍射仪对SnS薄膜进行表征分析显示,所有样品均沿(111)面择优生长,溅射压强为0.8 Pa时薄膜结晶性最好;使用场发射扫描电子显微镜对SnS薄膜进行测试,结...
关键词：射频磁控溅射法 溅射压强 SnS薄膜 薄膜结构 光学性能 
CdTe薄膜射频磁控溅射法制备研究被引量：1
《光源与照明》2023年第8期57-59,共3页焦宇泽 杜欣欣 
太阳能的规模化利用是解决当今全球能源短缺的重要途径。CdTe作为公认的高效、廉价的薄膜电池材料受到重视,文章介绍了射频磁控溅射法,总结了射频磁控溅射法制备的影响因素,包括溅射频率、脉冲偏压、沉积时间与射频功率、衬底靶距、衬...
关键词：CDTE 射频磁控溅射法 薄膜性能 
基于皮秒激光诱导击穿光谱技术的镓酸锌薄膜的快速定量分析研究被引量：1
《红外与激光工程》2023年第3期331-339,共9页董丽丽 高晴 吴家森 夏祥宇 刘世明 修俊山 
国家自然科学基金(11704228);山东省自然科学基金(ZR2022MA044,ZR2016AQ22)。
采用射频磁控溅射方法在不同的溅射功率下制备了掺杂Ga元素的ZnO透明导电薄膜材料(ZnGa_(2)O_(4),GZO),在GZO薄膜的制备过程中,溅射功率会对样品的组分配比产生影响,从而导致GZO薄膜的性能产生差异。文中利用皮秒激光诱导击穿光谱技术(P...
关键词：射频磁控溅射法 皮秒激光诱导击穿光谱技术 等离子体温度 电子密度 定量分析 
射频磁控溅射法在锂硫电池改性研究中的应用
《新材料产业》2020年第4期42-45,共4页张静 江海燕 刘彩霞 杨艳芳 徐元英 
合肥工业大学青年教师科研创新启动专项A项目“锂硫电池材料的制备及其物理气相沉积法改性研究”(项目编号JZ2020HGQA0165、11080—40042020017)资助。
1概述锂硫(Li-S)电池是一种极具发展前景的新型电源系统,近年来该领域的研究取得了长足的进步。锂硫电池的优势在于其环保经济,而且正极活性物质——硫,在自然界中的储备极为丰富,硫的理论比容量高达1675mAh/g,但是该系统也具有一些与...
关键词：正极活性物质 锂硫电池 电子导电性 充放电过程 理论比容量 正极材料 氧化还原反应 导电材料 
射频磁控溅射法成长Cu-Al-O薄膜的特性分析被引量：1
《粉末冶金工业》2020年第1期42-45,共4页王春艳 
河北省教育厅2019年高等学校科学技术研究项目(ZD2019122).
本文以Cu靶和Al靶为靶材,在Al靶上粘贴不同数量的Cu片控制Cu/Al比例,利用射频磁控溅射法在玻璃基板上沉积Cu-Al-O薄膜;通过WDS、XRD、XPS、四点探针、霍尔效应及UV-vis光谱等分析Al含量对薄膜成分、晶体结构以及光电特性的影响。结果表...
关键词：p型透明导电氧化物薄膜 Cu-Al-O薄膜 射频磁控溅射 AL含量 晶体结构 光电特性 
TiO_(2-x)N_x薄膜托槽的摩擦性能研究
《功能材料》2015年第14期14048-14051,14056,共5页岳子琪 王宇 王晔 肖文君 李淼 曹宝成 
甘肃省自然科学基金资助项目(1208RJZA236)
通过射频磁控溅射法,在不锈钢金属托槽表面制备了不同厚度的TiO2-xNx薄膜。薄膜的晶体结构,表面形貌和表面粗糙度分别通过X射线衍射、扫描电子显微镜和2206型表面粗糙度测量仪分析。通过14FW往复摩擦磨损测试仪考察薄膜托槽体外摩擦性...
关键词：射频磁控溅射法 TiO2-xNx薄膜 不锈钢托槽 摩擦系数 不同介质 
射频磁控溅射法在柔性聚酰亚胺衬底上制备ZnS薄膜及其特性研究
《半导体光电》2015年第5期756-759,764,共5页许佳雄 辛辅炼 魏坚烽 黄俊彬 温楚雄 邱莎莎 
中国博士后科学基金面上资助项目(2012M521575);广东工业大学大学生创新创业训练计划项目(xj201311845089)
为使Ⅱ-Ⅵ族化合物ZnS薄膜具有可弯曲性,选用柔性的聚酰亚胺作为衬底材料,用射频磁控溅射法沉积ZnS薄膜,对所制备薄膜的结晶结构、组分和光学特性进行分析。实验结果表明,所制备薄膜为结晶态的闪锌矿ZnS结构,择优取向为(111)晶面,晶粒...
关键词：ZNS薄膜 柔性衬底 磁控溅射 XRD 透射率 
射频磁控溅射法ZnO薄膜制备工艺的优化被引量：3
《真空》2015年第4期55-59,共5页王怡 李合增 李东临 郭瑞 
用射频磁控溅射制备ZnO薄膜,研究了溅射功率、溅射气体中氧氩以及工作气压对薄膜结构和光学性能的影响。通过对不同制备条件下的薄膜结构和薄膜的室温透射谱的分析,得到了磁控溅射制备ZnO薄膜的最佳工艺参数。
关键词：射频磁控溅射 ZNO薄膜 薄膜结构 透射谱 
射频磁控溅射法沉积SiC-Al薄膜的摩擦特性被引量：3
《真空科学与技术学报》2014年第11期1178-1183,共6页郑锦华 晁云峰 张冲 李聪慧 
郑州市科技人才队伍建设计划.科技领军人才资助项目(131PLJRC639);河南省科技创新杰出人才计划资助项目(114100510025)
利用射频法非平衡磁控溅射设备在钛合金板上沉积了非晶态SiC-Al薄膜。为了降低薄膜的摩擦系数,在薄膜中添加Al原子,同时Al也被选择为中间过渡材料来提高界面结合强度和防止界面氧化。研究结果表明：薄膜摩擦系数随着Al原子含量的增加而...
关键词：SiC-Al薄膜 中间过渡材料 摩擦特性 磨耗 界面强度 
射频磁控溅射法沉积非晶InGaZnO薄膜及真空退火对其性能的影响被引量：1
《半导体光电》2014年第3期464-467,473,共5页江凯 李远洁 
教育部留学回国人员科研启动基金项目(10回国基金11);中央高等学校基本科研业务经费项目(XJJ2013087)
采用RF磁控溅射法在石英玻璃上制备了InGaZnO薄膜,并对薄膜进行了真空退火实验,探讨了沉积过程中氧气流量及真空退火温度对薄膜的光学性质和电学性质的影响及其机理。测试结果表明薄膜的光透过率随氧气流的增加而增大,且当氧气流大于1cm...
关键词：RF磁控溅射 InGaZnO薄膜 光学性质 电学性质 退火 氧空位 
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