薄膜磁盘的技术发展  

作　　者：屠友灿 

机构地区：[1]中磁公司

出　　处：《信息记录材料》1991年第1期53-60,共8页Information Recording Materials

摘　　要：本文从比较颗粒介质的角度入手,扼要地叙述连续薄膜介质的各种优缺点、发展历史、大致分类。接着着重就目前已在磁盘中得到实际应用的连续薄膜介质,讨论其主要性能特点,薄膜形成方法和技术发展趋势。

关 键 词：薄膜磁盘 溅射法 垂直磁记录 双层膜 磁各向异性 合金薄膜 饱和磁化强度 金属薄膜 主要性能特点 耐腐蚀性 

分 类 号：TQ58[化学工程—精细化工]