云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 溅射法

溅射法: 作品数：958被引量：2255H指数：17; 导出分析报告; 相关领域：电子电信理学更多>>; 相关作者：齐宏进马洪磊赵青南黄峰李朋更多>>; 相关机构：中国科学院电子科技大学东南大学武汉理工大学更多>>; 相关期刊：更多>>; 相关基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>

射频磁控溅射法制备MoS_(2)纳米薄膜的光学性能研究: 《化工新型材料》2025年第2期131-134,共4页樊志琴邢淑涵李瑞张丽英张俊峰; 2024年河南省研究生教育改革与质量提升工程项目(YJS2024ZX15);河南工业大学2023年度研究性教学课程项目(2023YJXJX-38);教育部高等学校物理学类专业教学指导委员会教改研究课题项目(JZW-23-GT-09)。; 采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底表面沉积不同厚度的MoS_(2)纳米薄膜,利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见光分光光谱(UV-Vis)和荧光光谱等手段对MoS_(2)薄膜结构及光谱性质进行表征。结果表明:溅射时间越长,MoS_(2)薄膜的...; 关键词：MoS_(2)薄膜射频磁控溅射光学性能激子峰

射频磁控溅射制备SnS薄膜及其特性研究: 《延边大学学报(自然科学版)》2024年第4期20-25,共6页杨壮戚庆碧顾广瑞; 国家自然科学基金(51272224);吉林省自然科学基金(20210101163JC)。; 以玻璃和硅(Si)为衬底,采用射频磁控溅射法在不同溅射压强下制备了SnS薄膜.利用X射线衍射仪对SnS薄膜进行表征分析显示,所有样品均沿(111)面择优生长,溅射压强为0.8 Pa时薄膜结晶性最好;使用场发射扫描电子显微镜对SnS薄膜进行测试,结...; 关键词：射频磁控溅射法溅射压强 SnS薄膜薄膜结构光学性能

双膜层ITO/SiO_(2)薄膜制备及其膜电阻均匀性研究: 《表面技术》2024年第24期188-196,共9页朱治坤陈婉婷陈静朱常青刘荣梅; 国家自然科学基金青年基金项目(52201099);安徽省教育厅项目(2024AH050121)。; 目的通过双膜层结构设计制备ITO/SiO_(2)薄膜,研究了靶面磁场强度、镀膜工件移动速度、镀膜功率对ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性的影响,并研究了优化条件制备的ITO/SiO_(2)薄膜物相、形貌和结构,并通过元素分布分析探讨了SiO_(2)薄膜的...; 关键词：磁控溅射法 ITO/SiO_(2)双膜层微观结构膜电阻均匀性

退火温度对ITO/Cu/AZO透明导电薄膜结构及性能的影响: 《微纳电子技术》2024年第11期155-162,共8页孙冰成张健张贤旺于尉; 采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电...; 关键词：磁控溅射真空热处理氧化铟锡(ITO)薄膜 Al掺杂ZnO(AZO)薄膜交替溅射法

磁控溅射法制备掺镁氧化锌薄膜的微观结构及其物理性质: 《中南民族大学学报（自然科学版）》2024年第5期709-717,共9页顾锦华万鑫冯朝德龙浩钟志有; 国家自然科学基金资助项目(12075322)。; 采用磁控溅射工艺制备了纯氧化锌(ZnO)和不同掺杂量的掺镁氧化锌(MgZnO)薄膜,研究了薄膜样品电学、光学、气敏性能和微观结构与掺杂量之间的依赖关系,以及温度和气体浓度对薄膜气敏性能的影响,并对掺杂量为10%(质量分数)的薄膜样品的室...; 关键词：磁控溅射掺杂氧化锌微观结构气敏性能

磁控溅射法制备钛镓锌氧化物透明导电膜的介电和光电性能研究: 《中南民族大学学报（自然科学版）》2024年第4期561-566,共6页陆轴郭声彦谢泉; 贵州省科学技术基金资助项目(黔科合基础[2019]1248)。; 采用磁控溅射技术制备了钛镓锌氧化物(TiGaZnO)透明导电膜,研究了衬底温度对薄膜样品介电、光电和结构性能的影响.结果表明:所制备的薄膜样品均为(002)择优取向的六角纤锌矿结构,并且衬底温度对薄膜性能具有明显的影响.当衬底温度为610 ...; 关键词：透明导电膜氧化锌介电常数光电性能

PI基材磁控溅射法制备柔性覆铜板的结合力优化研究: 《宇航材料工艺》2024年第4期81-86,共6页王恩泽王顺花尚伦霖张广安; 中国科学院科技服务网络计划(No.20201600200092)。; 采用磁控溅射法在聚酰亚胺薄膜表面沉积铜层广泛应用于柔性覆铜板的制备。目前,表面铜膜和聚酰亚胺基材结合强度低是磁控溅射法制备柔性覆铜板所面临的主要问题之一。本文提出通过对聚酰亚胺基材进行等离子体刻蚀处理和引入金属Cr结合...; 关键词：聚酰亚胺铜膜结合力 FCCL

同位靶磁控溅射法制备Al掺杂CdSe薄膜: 《热加工工艺》2024年第16期159-162,共4页何惠江宣乐毛高翔刘辉王春海; 国家科技攻关计划项目(J2019-VI-0015-0130)。; 为增加掺杂薄膜的元素均匀性,基于磁控溅射技术,设计了靶材同位共溅射制备掺杂薄膜的方法,并用于制备Al掺杂CdSe薄膜,获得了Al均匀掺杂的CdSe薄膜。结果表明:制备的薄膜为富Se状态,呈现明显的(111)择优取向。Al掺杂后的CdSe薄膜方块电阻...; 关键词：同位靶磁控溅射 Al掺杂CdSe薄膜电学行为

基于磁控溅射法制备的大面积高质量硒化铂薄膜及其在红外探测中的应用被引量：1: 《Science China Materials》2024年第7期2293-2301,共9页夏丰田王东博曹伽牧曾值张冰珂潘静文刘东昊刘思航赵晨晨矫淑杰陈天媛刘罡方铉赵连城王金忠; supported by the National Key Research and Development Program of China(2019YFA0705201);the National Natural Science Foundation of China(U2032129).; PtSe_(2)因其可调的带隙、高载流子迁移率和较高的光吸收率在红外探测领域受到广泛的研究和关注.然而,传统的制备方法存在生长条件复杂、生长时间长、铂源和硒源的选择性较低、晶体质量不高、成本昂贵以及大规模制造困难等缺点,限制了...; 关键词：infrared detection material two-dimensional mate-rial transition metal dichalcogenides topological semi-metal

基于磁控溅射法生长hBN薄膜的MSM型真空紫外探测器(特邀)被引量：1: 《光子学报》2024年第7期21-30,共10页房万年李强张启凡陈冉升李家兴刘康康云峰; 国家重点研究发展计划(No.2021YFB3602000),中央高校基本科研业务费(Nos.xpt012022019,xyz012022088,xzd012022065)。; 针对目前大面积高质量六方氮化硼(hBN)薄膜的制备与转移存在均匀性、晶粒控制、无损转移等问题,采用射频磁控溅射技术成功在2英寸硅和蓝宝石介电衬底上沉积了hBN薄膜,拉曼光谱、X射线光电子能谱表征证实了薄膜具有明显的hBN特征。制备了...; 关键词：真空紫外探测六方氮化硼磁控溅射技术金属-半导体-金属型光电探测器

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