检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:于斌斌[1] 袁军堂[1] 孙淮阳[2] 吴笑天[1]
机构地区:[1]南京理工大学机械工程学院,南京210094 [2]江苏大学机械工程学院,江苏镇江212013
出 处:《材料科学与工艺》2011年第5期72-78,共7页Materials Science and Technology
基 金:总装备部预研基金资助项目(9140A18070209BQ02);国家部委"十一五"预研基金资助项目(62301090103);江苏省研究生创新基金资助项目(CX10B_113Z);中国博士后科学基金项目(2011M500924)
摘 要:膜/基界面结合强度的测量与评价已成为硬质薄膜技术发展与应用的关键问题.提出了1种新的测量方法———激光冲击检测技术,分析了在脉冲激光作用下,薄膜脱落的机理与数学模型.以测定TiN薄膜界面结合强度为例,用650~1000 mJ的脉冲激光对膜层进行加载,并采用体式显微镜和扫描电镜对薄膜的脱落情况进行表面观察,根据反射信号检测法判别TiN薄膜的失效阈值.实验数据分析表明,测得膜/基界面的结合强度为4.954 GW/cm2,验证了该技术的可行性.Measurement and evaluation of interfacial adhesion strength is one of the key questions for development and applications of hard film technology.This paper presents a new detection method of pulsed-laser shock technique,based on analyzing the mechanism and mathematical model of film separation under the action of pulsed-laser shock.Taking the measurment of the adhesion strength of TiN film as an example,the surface was impacted by pulsed-laser at the range of 650~1000 mJ,the surface topography of impact points was observed by style microscope and scanning electron microscope,and the TiN film failure threshold was identified by the reflected signal detection.The experimental results suggest that the film/substrate interfacial adhesion strength was 4.954 GW/cm2,which proves that the technique is feasible.
分 类 号:TG111[金属学及工艺—物理冶金]
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在链接到云南高校图书馆文献保障联盟下载...
云南高校图书馆联盟文献共享服务平台 版权所有©
您的IP:18.221.185.110