光学光刻机的未来技术  被引量:3

Innovative Technics of Optical Lithography Tool in the Near Future

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作  者:程建瑞 

机构地区:[1]上海微电子装备有限公司,上海201203

出  处:《电子工业专用设备》2011年第11期18-25,共8页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘  要:1集成电路技术路线图1.

关 键 词:集成电路技术 光刻机 光学 IC技术 路线图 

分 类 号:TN705.7[电子电信—电路与系统]

 

参考文献:

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