美国开发出热蘸笔纳米光刻技术  

出　　处：《军民两用技术与产品》2012年第1期32-32,共1页Dual Use Technologies & Products

摘　　要：美国劳伦斯伯克利国家实验室和伊利诺伊大学香槟分校的科学家首次研究出了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用，并据此开发出了新的热蘸笔纳米光刻技术。利用该技术可在多种材料表面构造纳米结构，用于精确制造纳米设备，以及研究药物作用机理等。

关 键 词：纳米光刻技术 开发 英国 国家实验室 纳米结构 表面构造 纳米设备 药物作用 

分 类 号：TN4[电子电信—微电子学与固体电子学]