晶片定位原理与算法  

Principle And Analysis of the Wafer Positioning

作　　者：吕菲[1] 耿博耘[1] 李春龙[1] 莫宇[1] 周传月[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津300220

出　　处：《电子工业专用设备》2012年第1期47-49,共3页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：在半导体材料的加工过程中,晶片的精确定位应用于多个工序,一方面能提高生产率,另一方面也能提高产品的一致性,保证晶片的加工精度。目前的定位方式分为两种,仅对电子定位系统加以介绍,针对不同的晶片轮廓采用不同的识别数据,介绍了数据采集原理和数据特点,以及轮廓识别软件如何对数据进行分析和处理,最终实现对晶片的精确定位。During the semiconductor material processing,the wafer accurate positioning is used in many process.Because it can enhance the productivity and,on the other hand,it can improve product consistency to ensure the wafer process precision.The current position can be divided into two types.The electronic positioning system,one of the two types,is introduced in this paper,which deals different wafer profile with different identification data.Furthermore,the principles of data acquisition and data characteristics are described.The profile identification software is used to analysis and process the data,which ultimately achieve the precise positioning purpose.

关 键 词：晶片定位 数据采集 定位槽 参考面 数据分析 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]