亚半微米投影光刻物镜的研究设计  

Design of project lens used in sub-half micron lihography

作　　者：陈旭南[1] 姚汉民[1] 李展 林妩媚 余国彬 罗先刚 张津 

机构地区：[1]中国科学光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209

出　　处：《微细加工技术》2000年第1期26-30,共5页Microfabrication Technology

摘　　要：介绍了分步重复投影光刻机亚半微米光刻物镜光学和机械结构研究设计、设计结果 ,以及公差控制。指出技术指标已达到 :数值孔径NA =0 .6 3、工作波长λ =36 5nm、倍率 5x、工作分辨力R 0 .35 μm ,设计物镜所用透镜片数最少 ,无胶合件 ,并具有暗场同轴对准和温度气压控制补偿功能。The optical and mechanical structures of the object lens used in sub?half micron lithography are described.The design results and tolerance control are also shown.The technical data are as follows:numerical aperture is 0.63,work wavelength is 365nm,ratio is 5X and work resolution is 0.35 micron.The object lens has the functions of dark field TTL alignment and compensation of temperature and air pressure control.

关 键 词：亚半微米光刻 投影物镜 设计 集成电路 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学] TN305.7