投影物镜

作品数：104被引量：312H指数：10
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相关作者：王向朝李艳秋李思坤唐锋闫观勇更多>>
相关机构：上海微电子装备(集团)股份有限公司中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
相关期刊：《集成电路应用》《微纳电子技术》《光学与光电技术》《红外技术》更多>>
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KrF深紫外光刻投影物镜光机热集成分析与优化
《光学学报》2024年第7期139-149,共11页韩星 江伦 李延伟 李骏驰 
吉林省重大科技专项课题(20230301002GX);涂胶显影工艺自动光学检测单元智能服务系统研发关键技术攻关(S220711VH220)。
提出了一种融合新型支撑方式与灵敏度分析的光机热集成分析与优化方法,用于设计超高精度深紫外光刻投影物镜系统。首先,采用轴向多点与周向三点胶接支撑相结合的新型支撑方式,实现了212.51 mm口径光学元件的超高精度定位要求。其次,通...
关键词：光学设计 结构设计 光机热集成分析 ZERNIKE多项式 有限元分析 
基于Ronchi剪切干涉的投影物镜数值孔径测量方法被引量：1
《中国激光》2023年第13期94-102,共9页卢云君 李中梁 唐锋 王向朝 
国家科技重大专项(2017ZX02101006);国家自然科学基金(61971406,81927801);中国科学院青年创新促进会项目。
数值孔径(NA)作为投影物镜的基本参数,决定了投影物镜的成像分辨率。在利用双光栅Ronchi剪切干涉仪测量投影物镜波像差时,NA也是实现波像差高精度检测的一项基本参数。提出了一种基于Ronchi剪切干涉像面光栅轴向离焦的投影物镜NA测量方...
关键词：测量 数值孔径测量 投影物镜 Ronchi剪切干涉 剪切波前 光程差 
一种投影物镜测试台的设计
《集成电路应用》2023年第4期300-302,共3页宋兴龙 
阐述投影物镜测试台用于对投影物镜性能和接口进行测试验证,投影物镜测试台作为一种测量工具,其自身精度,操作便利性,维护性与最终物镜的交付质量也有着密切关系。探讨对测试台部分结构、投影物镜集成流程的优化设计,从而提高了测试台...
关键词：投影物镜 测试台 便利性设计 集成流程 
光刻投影物镜畸变检测中的位移测量误差分析被引量：1
《光电工程》2023年第2期88-100,共13页杜婧 刘俊伯 全海洋 胡松 
国家重点研发计划(2021YFB3200204);中国科学院青年创新促进会(2021380)。
在光刻投影物镜的畸变检测中,位移测量误差是光刻投影物镜畸变检测的重要误差源之一,深度分析误差源并减小误差项,可提高光刻投影物镜的畸变检测精度。本文将运动台的定位与测量技术相结合,着重分析利用夏克-哈特曼波前传感器对投影物...
关键词：畸变检测 波前检测 位移测量 投影物镜 
大数值孔径(NA=0.55)变倍率极紫外光刻投影物镜偏振像差高精度检测方法被引量：1
《光学学报》2022年第23期56-67,共12页李昂 李艳秋 韦鹏志 袁淼 王成成 
国家自然科学基金(62175014);国家科技重大专项(2017ZX02101006)。
提出了一种严格的非线性成像测量大数值孔径(NA=0.55)变倍率极紫外光刻(EUVL)投影物镜偏振像差的方法。首先在变倍率极紫外(EUV)严格矢量成像模型基础上,通过建立偏振像差与空间像频谱的非线性关系,得到非线性超定方程组,并提出一种同...
关键词：测量 极紫外光刻 光刻成像理论 像差测量 成像测量技术 偏振像差 
基于微光头盔观察、悬挂式红外夜视仪光学系统设计被引量：2
《红外技术》2022年第12期1278-1286,共9页孙爱平 胡健钏 安长亮 李训牛 汪陈跃 龚杨云 宋宇宇 
头盔夜视仪由单波段向多波段图像融合的方向发展。本文对基于微光头盔观察、悬挂式红外夜视仪的技术方案、图像配准精度进行分析并进行光学仿真。首先分析悬挂式红外夜视仪与微光头盔组合使用的工作模式以及图像旋转、圆形视场的设计方...
关键词：投影物镜 红外物镜 图像融合 图像配准 悬挂式 红外夜视仪 
多层压电驱动器在光刻机中的应用被引量：5
《激光与光电子学进展》2022年第9期393-402,共10页杜刚 康晓旭 曾江涛 曾涛 
上海市国际合作项目(20520730600)。
多层压电驱动器具有体积小、响应快、刚度大、位移精度高、驱动力大等优点,在光刻机的开发中有广泛的应用。简要介绍了多层压电驱动器的基本结构与特征,列举了多层压电驱动器在光刻机投影物镜的高精度微调、掩模台的定位及光刻机的主动...
关键词：多层压电驱动器 光刻机 投影物镜 主动减振 
“光刻技术”专题前言
《激光与光电子学进展》2022年第9期I0001-I0002,共2页王向朝 韦亚一 邱建荣 
集成电路是现代工业的基础。光刻机是集成电路制造的核心装备,其技术水平决定了集成电路的集成度几十年来,光刻机曝光波长从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到目前最短的13.5 nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径从初期的0.28...
关键词：光刻技术 集成电路制造 光刻机 光刻工艺 投影物镜 数值孔径 理论极限 紫外波段 
光刻技术《激光与光电子学进展》
《激光与光电子学进展》2021年第21期F0002-F0002,共1页
光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,其分辨率决定了集成电路芯片的集成度。为了追求更高的分辨率,光刻机曝光波长已从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到当前最短的13.5 nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径则从初期的0.2...
关键词：集成电路芯片 光刻机 光刻技术 投影物镜 光学邻近效应校正 数值孔径 紫外波段 掩模 
光刻技术《激光与光电子学进展》
《激光与光电子学进展》2021年第19期F0002-F0002,共1页
光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,其分辨率决定了集成电路芯片的集成度。为了追求更高的分辨率,光刻机曝光波长已从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到当前最短的13.5 nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径则从初期的0.2...
关键词：集成电路芯片 光刻机 光刻技术 投影物镜 数值孔径 极大规模集成电路 紫外波段 浸液式光刻 
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