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作 者:刘向凯[1] 詹豪强[1] 郑时国[1] 陈淑伟[1] 张治国[1]
机构地区:[1]化学合成与污染控制四川省重点实验室西华师范大学化学化工学院,四川南充637009
出 处:《西华师范大学学报(自然科学版)》2012年第1期91-95,共5页Journal of China West Normal University(Natural Sciences)
基 金:聚方酸菁近红外材料的工业合成(09ZA121)
摘 要:作者主要研究了二吡咯化合物的合成及其在正己烷、氯仿和二甲亚砜三种溶剂中的紫外-可见吸收光谱.结果表明:在这三种溶剂中,二吡咯化合物的紫外-可见光谱主要在270nm左右及410nm左右有两个强吸收峰,并且溶剂极性对两个吸收峰强度也有不同的影响.This paper makes a study about the synthesis of the bispyrrole and UV-Vis spectra in n-hexane、chloroform、dimethyl sulfone.The results show that the bispyrrole has two strong absorption peaks at 270nm and 410nm.Furthermore,the strength of the adsorption peaks is differently affected by the polarity of the solvent.
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