法国ULIS公司正在研制高性能非致冷型红外成像阵列  

作　　者：岳桢干 

出　　处：《红外》2012年第4期48-48,共1页Infrared

摘　　要：非晶硅微测辐射热计可以使像元间距为17μm的高灵敏度和使用方便的非致冷型红外焦平面阵列直接实现大批量生产。

关 键 词：非致冷型 红外成像阵列 红外焦平面阵列 性能 法国 微测辐射热计 大批量生产 高灵敏度 

分 类 号：TN215[电子电信—物理电子学]