亚纳米级抛光加工实验室的管理与维护  

Management and maintenance of atom-scale polishing laboratory

作　　者：尹红[1] 黄崇利[2] 

机构地区：[1]海南大学政治与公共管理学院,海南海口570228 [2]海南大学应用科技学院,海南海口570228

出　　处：《实验技术与管理》2012年第4期204-206,213,共4页Experimental Technology and Management

基　　金：教育部人文社科青年项目(11YJC630263);上海市教育委员会科研创新项目资助(09ZZ86);海南大学青年基金项目(qnjj1102);海南省自然科学规划项目(710243)

摘　　要：亚纳米级抛光是获得超光滑表面的主要方法。目前,常用的亚纳米级抛光方法有化学机械抛光(CMP)、电化学机械抛光(ECMP)、无磨料化学机械抛光(AP-CMP)、磁流变抛光(MRP)等。亚纳米级抛光质量受抛光液、抛光条件和抛光环境等诸多方面的影响。抛光实验室的抛光环境是超光滑表面的重要影响因素之一,必须对抛光环境的各个方面加以科学管理和维护。With the rapid improvement of electronic manufacturing technology, the demand for super-smooth surfaces becomes increasing. Atom-scale polishing is the main method to achieve supe-smooth surfaces. At present, chemical mechanical polishing （CMP）, electro-chemical mechanical polishing （ECMP）, abrasive-free chemical mechanical polishing（AP-CMP）, magnetorheological polishing （MRP）, etc. are the commonly used methods in atom scale polishing. The influences on polishing are as follows： polishing slurry, polishing param-eters, polishing environment, etc. Among them, the laboratory environment is one of the main factors that must be managed and maintained.

关 键 词：亚纳米级抛光 平整度 超光滑表面 超洁净 

分 类 号：TG580.692[金属学及工艺—金属切削加工及机床]