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检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:张燕梁[1] 戈超[2] 张俊秋[2] 贾凡[3] 马荣峰[2]
机构地区:[1]黑龙江八一农垦大学工程学院,大庆163319 [2]吉林大学工程仿生教育部重点实验室 [3]长春理工大学图书馆
出 处:《黑龙江八一农垦大学学报》2012年第2期16-19,26,共5页journal of heilongjiang bayi agricultural university
基 金:国家自然科学基金重点项目(50635030);国家973计划前期研究专项(2007CB616913)资助;吉林大学研究生创新基金资助项目(20091015)
摘 要:介绍了磁控溅射的基本原理,以及几种典型的磁控溅射镀膜技术(反应溅射、非平衡磁控溅射、等离子体加强磁控溅射技术);并介绍了利用磁控溅射技术制备钛合金耐冲蚀涂层的新进展。In this paper,the basic concept of magnetron sputtering method was reviewed and several typical magnetron sputtering technology such as reactive magnetron sputtering,unbalanced magnetron sputtering and plasma enhanced magnetron sputtering was described. Recent progress in research on erosion resistance titanium alloy composite coatings deposited by magnetron sputtering method was summarized.
分 类 号:TG146[一般工业技术—材料科学与工程]
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