X射线光刻技术的现状  

作　　者：徐晓峰 李雅洁 

出　　处：《光机电信息》2000年第4期18-20,共3页OME Information

摘　　要：X射线光刻技术(XRL)是刻制130nm,100nm和70nm最小尺寸图形的可行方案之一.其它候选技术还有193nmArF准分子激光光刻、电子束投影、电子束直接写入、极紫外(EUV)及离子束投影光刻等.然而,在各种技术之中,由于XRL具有良好的临界尺寸控制及可扩展到刻制70nm以下最小尺寸图形等优点而处于领先地位.虽然XRL所需要的设备和材料业已商品化。

关 键 词：X射线光刻技术 X射线掩模 X射线步进机 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]