光学薄膜的研究新进展及应用  

作　　者：沈远香[1] 黄晓霞[1] 王永惠[1] 

机构地区：[1]中国兵器工业第五九研究所,重庆400039

出　　处：《四川兵工学报》2012年第8期105-107,共3页Journal of Sichuan Ordnance

摘　　要：随着科学技术的进步,光学薄膜及相关技术不论从广度还是深度来看都得到了显著发展,并逐渐渗透到现代技术和高端技术等领域。对光学薄膜的3种制备技术:物理气相学沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和化学液相沉积(CLD)进行了分析。综述了几种新型光学薄膜(金刚石薄膜及类金刚石薄膜、软X射线多层膜、太阳能选择性吸收膜、高强度激光膜)的研究进展以及光学薄膜的应用情况。

关 键 词：光学薄膜 制备技术 气相沉积 液相沉积 

分 类 号：O484.4[理学—固体物理]