QFD在PECVD镀膜设备中的应用  

作　　者：陶俊[1] 吴晓松[1] 

机构地区：[1]上海交通大学机械与动力工程学院

出　　处：《科技致富向导》2012年第26期81-82,108,共3页Guide of Sci-tech Magazine

摘　　要：PECVD镀膜设备作为太阳能电池生产设备中的关键设备,PECVD产品技术特征是满足硅片镀膜需求的重要因素。本文将QFD方法应用于PECVD镀膜设备开发过程,并形成一种新的PECVD镀膜设备设计方法,此方法就是针对太阳能设备市场构建顾客需求与产品技术特征的关联矩阵,从而将顾客需求转化为具体的设计要求。为产品开发提供指导;还结合W公司INLINE新产品开发的实际情景,设计INLINE新产品的技术特征目标水平,初步表明该方法有助于提高产品开发效率。

关 键 词：PECVD镀膜设备 质量功能展开 产品开发 技术特征 

分 类 号：TP311.52[自动化与计算机技术—计算机软件与理论]