用于FEA场发射微尖表面的硅化物薄膜  

The Silicide Film on the Surface of FEA's Emission Tips

作　　者：季旭东[1] 

机构地区：[1]南京华东电子管厂,南京210028

出　　处：《光电子技术》2000年第2期111-115,共5页Optoelectronic Technology

摘　　要：一些硅的化合物具有良好的场发射特性，如果用作FEA发射微尖表面的薄膜，将能较好地提高FEA的发射特性。本文对这一类硅化物的制作、测量与性能作了说明。Some silicides are very good for the film on the surface of FEA' S emission tips, because of their good performance in field emission. They can improve the performanc e of FEA. The fabrication, measurement and performance of such silicides are described in this work.

关 键 词：硅化物 FEA薄膜 场致发射 

分 类 号：TN304.055[电子电信—物理电子学]